原标题：上海微电子披露：2021-2022年首台28纳米工艺国产沉浸式光刻机交付
6月10日新闻界面新闻报道：近日，上海微电子设备(集团)有限公司透露，将于2021年至2022年交付首台28纳米工艺国产浸没式光刻机。国产光刻机将突破以前的90纳米工艺到28纳米工艺。
据信，上海微电子设备(集团)有限公司主要致力于半导体设备、泛半导体设备和高端智能设备的开发、设计、制造、销售和技术服务。公司设备广泛应用于集成电路前通道、高级封装、平板显示面板、微机电系统、发光二极管、功率器件等制造领域。
目前，上海微电子光刻产品包括集成电路前轨制造的SSX600系列光刻机；集成电路背道先进封装SSB500系列光刻机：发光二极管、微机电系统、功率器件制造SSB300系列光刻机；薄膜晶体管曝光SSB200系列光刻机。
其中，SSX600系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应聚焦调平技术和高速高精度自阻尼六自由度工件台掩膜台技术，能够满足集成电路前轨制作90纳米、110纳米、280纳米关键层和非关键层的光刻工艺要求。该设备可用于8英寸或12英寸线材的大规模工业生产。
